Awọn gaasi adalu ti o wọpọ ni iṣelọpọ semikondokito

Epitaxial (idagbasoke)Apapo Gas

Ninu ile-iṣẹ semikondokito, gaasi ti a lo lati dagba ọkan tabi diẹ ẹ sii awọn ipele ohun elo nipasẹ isunmọ oru kẹmika lori sobusitireti ti a ti yan ni iṣọra ni a pe ni gaasi epitaxial.

Awọn gaasi epitaxial silikoni ti o wọpọ pẹlu dichlorosilane, silikoni tetrachloride atisilane. Ni akọkọ ti a lo fun ifisilẹ ohun alumọni epitaxial, fifisilẹ fiimu ohun elo afẹfẹ silikoni, fifisilẹ fiimu silikoni nitride, ifisilẹ fiimu silikoni amorphous fun awọn sẹẹli oorun ati awọn olutọpa miiran, bbl Apọju jẹ ilana kan ninu eyiti ohun elo gara kan ti wa ni ipamọ ati dagba lori oju ti sobusitireti kan.

Kẹmika Vapor Deposition (CVD) Gaasi Adalu

CVD jẹ ọna ti fifipamọ awọn eroja kan ati awọn agbo ogun nipasẹ awọn aati kemikali alakoso gaasi nipa lilo awọn agbo ogun iyipada, ie, ọna ṣiṣe fiimu nipa lilo awọn aati kemikali alakoso gaasi. Ti o da lori iru fiimu ti a ṣẹda, gaasi ti o ni eruku kemikali (CVD) ti a lo tun yatọ.

DopingGaasi adalu

Ninu iṣelọpọ awọn ẹrọ semikondokito ati awọn iyika iṣọpọ, diẹ ninu awọn impurities ti wa ni doped sinu awọn ohun elo semikondokito lati fun awọn ohun elo ni iru ifọkansi ti a beere ati resistivity kan lati ṣe awọn resistors, awọn ipade PN, awọn ipele ti a sin, bbl. Gaasi ti a lo ninu ilana doping ni a pe ni gaasi doping.

Ni akọkọ pẹlu arsine, phosphine, irawọ owurọ trifluoride, irawọ owurọ pentafluoride, arsenic trifluoride, arsenic pentafluoride,boron trifluoride, diborane, etc.

Nigbagbogbo, orisun doping jẹ idapọ pẹlu gaasi ti ngbe (bii argon ati nitrogen) ninu minisita orisun kan. Lẹhin ti o dapọ, ṣiṣan gaasi ti wa ni itasi nigbagbogbo sinu ileru itọka ati yika wafer, fifi awọn dopants sori dada wafer, ati lẹhinna fesi pẹlu ohun alumọni lati ṣe awọn irin doped ti o lọ si ohun alumọni.

EtchingGaasi Adalu

Etching ni lati etch kuro awọn dada processing (gẹgẹ bi awọn irin fiimu, ohun alumọni ohun elo afẹfẹ film, ati be be lo) lori sobusitireti lai photoresist masking, nigba ti toju awọn agbegbe pẹlu photoresist masking, ki o le gba awọn ti a beere aworan Àpẹẹrẹ lori sobusitireti dada.

Awọn ọna etching pẹlu tutu kemikali etching ati ki o gbẹ kemikali etching. Gaasi ti a lo ninu etching kemikali gbigbẹ ni a npe ni gaasi etching.

Gaasi etching maa n jẹ gaasi fluoride (halide), biierogba tetrafluoride, nitrogen trifluoride, trifluoromethane, hexafluoroethane, perfluoropropane, ati bẹbẹ lọ.


Akoko ifiweranṣẹ: Oṣu kọkanla-22-2024