Awọn gaasi patakiyato si gbogboogboawọn gaasi ile-iṣẹni pe wọn ni awọn lilo amọja ati pe wọn lo ni awọn aaye kan pato. Wọn ni awọn ibeere kan pato fun mimọ, akoonu aimọ, akopọ, ati awọn ohun-ini ti ara ati kemikali. Ti a ṣe afiwe si awọn gaasi ile-iṣẹ, awọn gaasi pataki jẹ oriṣiriṣi pupọ ni ọpọlọpọ ṣugbọn ni iṣelọpọ kekere ati awọn iwọn tita.

Awọnadalu ategunatiboṣewa odiwọn ateguna commonly lo ni o wa pataki irinše ti nigboro gaasi. Awọn gaasi idapọmọra ni a maa n pin si awọn gaasi idapọpọ gbogbogbo ati awọn gaasi alapọpo itanna.

Awọn gaasi idapọmọra gbogbogbo pẹlu:gaasi adalu lesa, Iwari ohun elo gaasi adalu, alurinmorin gaasi adalu, itoju adalu gaasi, ina ina ina adalu gaasi, egbogi ati ti ibi iwadi adalu gaasi, disinfection ati sterilization adalu gaasi, ohun elo itaniji adalu gaasi, ga-titẹ adalu gaasi, ati odo-ite air.

Awọn apopọ gaasi elekitironi pẹlu awọn akojọpọ gaasi epitaxial, awọn akojọpọ gaasi isọdi kẹmika, awọn akojọpọ gaasi doping, awọn idapọ gaasi etching, ati awọn akojọpọ gaasi itanna miiran. Awọn apopọ gaasi wọnyi ṣe ipa pataki ninu semikondokito ati awọn ile-iṣẹ microelectronics ati pe a lo ni lilo pupọ ni Circuit iṣọpọ titobi nla (LSI) ati iṣelọpọ iṣọpọ iwọn-nla pupọ (VLSI), ati ni iṣelọpọ ẹrọ semikondokito.

5 Orisi ti itanna adalu gaasi ni o wa julọ commonly lo

Doping adalu gaasi

Ninu iṣelọpọ awọn ẹrọ semikondokito ati awọn iyika iṣọpọ, awọn aimọ diẹ kan ni a ṣe sinu awọn ohun elo semikondokito lati funni ni ifarakanra ti o fẹ ati atako, ti o mu ki iṣelọpọ ti awọn alatako, awọn ipade PN, awọn fẹlẹfẹlẹ sin, ati awọn ohun elo miiran. Awọn gaasi ti a lo ninu ilana doping ni a pe ni awọn gaasi dopant. Awọn gaasi wọnyi ni akọkọ pẹlu arsine, phosphine, irawọ owurọ trifluoride, irawọ owurọ pentafluoride, arsenic trifluoride, arsenic pentafluoride,boron trifluoride, ati diborane. Orisun dopant jẹ igbagbogbo dapọ pẹlu gaasi ti ngbe (bii argon ati nitrogen) ninu minisita orisun kan. Awọn gaasi adalu ti wa ni nigbagbogbo itasi sinu kan tan kaakiri ileru ati kaakiri ni ayika wafer, depositing awọn dopant lori wafer dada. Dopant lẹhinna fesi pẹlu ohun alumọni lati ṣe agbekalẹ irin dopant kan ti o lọ si ohun alumọni naa.

Epitaxial idagba gaasi adalu

Idagba epitaxial jẹ ilana ti fifipamọ ati dagba ohun elo gara kan kan sori dada sobusitireti kan. Ninu ile-iṣẹ semikondokito, awọn gaasi ti a lo lati dagba ọkan tabi diẹ ẹ sii awọn ohun elo ti o ni nkan ṣe pẹlu lilo isunmọ eeru kẹmika (CVD) lori sobusitireti ti a ti farabalẹ ti yan ni a pe ni awọn gaasi epitaxial. Awọn gaasi epitaxial silikoni ti o wọpọ pẹlu dihydrogen dichlorosilane, silikoni tetrachloride, ati silane. Wọn ti wa ni nipataki lilo fun ohun alumọni epitaxial iwadi oro, polycrystalline ohun alumọni iwadi oro, ohun alumọni oxide film iwadi oro, silikoni nitride film iwadi oro, ati amorphous silikoni film iwadi oro fun oorun ẹyin ati awọn miiran photosensitive awọn ẹrọ.

Ion isunmọ gaasi

Ninu ẹrọ semikondokito ati iṣelọpọ iyika iṣọpọ, awọn gaasi ti a lo ninu ilana isunmọ ion ni a tọka si bi awọn gaasi imunwọle ion. Awọn aimọ ionized (gẹgẹbi boron, irawọ owurọ, ati awọn ions arsenic) ni a yara si ipele agbara giga ṣaaju ki o to gbin sinu sobusitireti. Imọ-ẹrọ fifin ion jẹ lilo pupọ julọ lati ṣakoso foliteji ala. Iye awọn aimọ ti a fi sii ni a le pinnu nipasẹ wiwọn lọwọlọwọ tan ina ion. Awọn gaasi gbingbin ion ni igbagbogbo pẹlu irawọ owurọ, arsenic, ati awọn gaasi boron.

Etching adalu gaasi

Etching ni ilana ti etching kuro ni ilọsiwaju dada (gẹgẹ bi awọn irin fiimu, silikoni ohun elo afẹfẹ film, ati be be lo) lori sobusitireti ti o ti wa ni ko boju mu nipa photoresist, nigba ti toju awọn agbegbe boju nipa photoresist, ki lati gba awọn ti a beere aworan Àpẹẹrẹ lori sobusitireti dada.

Kemikali Vapor Deposition Gas Adalu

Isọdi ọru ọru (CVD) nlo awọn agbo ogun ti o ni iyipada lati fi nkan kan tabi idapọmọra silẹ nipasẹ iṣesi kẹmika kan-oru-fase. Eyi jẹ ọna ṣiṣe fiimu ti o nlo awọn aati kẹmika ọru-alakoso. Awọn gaasi CVD ti a lo yatọ si da lori iru fiimu ti a ṣẹda.