A maa n lo gaasi lesa fun annealing lesa ati lithography gaasi ninu ile-iṣẹ itanna. Ni anfani lati inu imotuntun ti awọn iboju foonu alagbeka ati imugboroosi awọn agbegbe lilo, iwọn ọja polysilicon ti o ni iwọn otutu kekere yoo pọ si siwaju sii, ati ilana annealing lesa ti mu iṣẹ TFT dara si ni pataki. Lara awọn gaasi neon, fluorine, ati argon ti a lo ninu anealing ArF excimer fun iṣelọpọ semiconductors, neon jẹ diẹ sii ju 96% ti adalu gaasi lesa lọ. Pẹlu isọdọtun ti imọ-ẹrọ semiconductors, lilo awọn anealing excimer ti pọ si, ati ifihan ti imọ-ẹrọ ifihan meji ti yori si ilosoke didasilẹ ni ibeere fun gaasi neon ti awọn anealing excimer ArF nlo. Ni anfani lati igbega ti agbegbe ti awọn anealing pataki itanna, awọn aṣelọpọ ile yoo ni aaye idagbasoke ọja ti o dara julọ ni ọjọ iwaju.
Ẹ̀rọ Lithography ni ohun èlò pàtàkì nínú iṣẹ́ ẹ̀rọ semiconductor. Lithography túmọ̀ ìwọ̀n àwọn transistors. Ìdàgbàsókè tí a ṣètò ti ẹ̀rọ lithography jẹ́ kọ́kọ́rọ́ sí ìdàgbàsókè ẹ̀rọ lithography. Àwọn ohun èlò semiconductor tí ó báramu bíi photoresist, photolithography gaasi, photomask, àti coating àti àwọn ohun èlò tí ń dàgbàsókè ní akoonu ìmọ̀-ẹ̀rọ gíga. Gaasi Lithography ni gaasi tí ẹ̀rọ lithography ń ṣe láti mú lesa ultraviolet jinlẹ̀ jáde. Àwọn gaasi lithography ọ̀tọ̀ọ̀tọ̀ lè mú àwọn orísun ìmọ́lẹ̀ tí ó yàtọ̀ síra wáyà, àti pé ìgbì wọn ní ipa lórí ìpinnu ẹ̀rọ lithography náà ní tààrà, èyí tí ó jẹ́ ọ̀kan lára àwọn kókó inú ẹ̀rọ lithography náà. Ní ọdún 2020, àpapọ̀ títà àwọn ẹ̀rọ lithography kárí ayé yóò jẹ́ 413 ẹ̀rọ, nínú èyí tí títà ASML 258 ẹ̀rọ jẹ́ 62%, títà Canon 122 ẹ̀rọ jẹ́ 30%, àti títà Nikon 33 ẹ̀rọ jẹ́ 8%.
Àkókò ìfìwéránṣẹ́: Oṣù Kẹ̀wàá-15-2021
