Gaasi lesa ti wa ni o kun lo fun lesa annealing ati lithography gaasi ninu awọn Electronics ile ise. Ni anfani lati ĭdàsĭlẹ ti awọn iboju foonu alagbeka ati imugboroja ti awọn agbegbe ohun elo, iwọn ti ọja polysilicon ti iwọn otutu kekere yoo jẹ ilọsiwaju siwaju sii, ati ilana imudani laser ti ni ilọsiwaju iṣẹ ti awọn TFTs. Lara awọn neon, fluorine, ati awọn gaasi argon ti a lo ninu laser excimer ArF fun iṣelọpọ semikondokito, awọn akọọlẹ neon fun diẹ sii ju 96% ti adalu gaasi laser. Pẹlu isọdọtun ti imọ-ẹrọ semikondokito, lilo awọn lasers excimer ti pọ si, ati iṣafihan imọ-ẹrọ ifihan ilọpo meji ti yori si ilosoke didasilẹ ni ibeere fun gaasi neon ti o jẹ nipasẹ awọn lasers excimer ArF. Ni anfani lati igbega ti agbegbe ti awọn gaasi pataki itanna, awọn aṣelọpọ ile yoo ni aaye idagbasoke ọja ti o dara julọ ni ọjọ iwaju.
Ẹrọ Lithography jẹ ohun elo akọkọ ti iṣelọpọ semikondokito. Lithography n ṣalaye iwọn awọn transistors. Idagbasoke iṣọpọ ti pq ile-iṣẹ lithography jẹ bọtini si aṣeyọri ti ẹrọ lithography. Awọn ohun elo semikondokito ti o baamu gẹgẹbi photoresist, gaasi fọtolithography, fotomask, ati ibora ati ohun elo to sese ni akoonu imọ-ẹrọ giga. Gaasi Lithography jẹ gaasi ti ẹrọ lithography n ṣe ina lesa ultraviolet ti o jinlẹ. Awọn gaasi lithography oriṣiriṣi le gbe awọn orisun ina ti awọn iwọn gigun ti o yatọ, ati pe gigun gigun wọn taara ni ipa lori ipinnu ti ẹrọ lithography, eyiti o jẹ ọkan ninu awọn ohun kohun ti ẹrọ lithography. Ni ọdun 2020, apapọ awọn tita agbaye ti awọn ẹrọ lithography yoo jẹ awọn ẹya 413, eyiti awọn tita ASML 258 ṣe iṣiro fun 62%, awọn tita Canon awọn ẹya 122 jẹ 30%, ati tita Nikon 33 awọn ẹya jẹ 8%.
Akoko ifiweranṣẹ: Oṣu Kẹwa 15-2021
