Sulfur hexafluoride jẹ gaasi ti o ni awọn ohun-ini idabobo ti o dara julọ ati pe a lo nigbagbogbo ni piparẹ arc giga-voltage ati awọn oluyipada, awọn laini gbigbe giga-voltage, awọn oluyipada, bbl Sibẹsibẹ, ni afikun si awọn iṣẹ wọnyi, sulfur hexafluoride tun le ṣee lo bi itanna eletiriki. Hexafluoride sulfur giga-mimọ giga-itanna jẹ itanna eletiriki ti o dara julọ, eyiti o jẹ lilo pupọ ni aaye ti imọ-ẹrọ microelectronics. Loni, Niu Ruide olootu gaasi pataki Yueyue yoo ṣafihan ohun elo ti sulfur hexafluoride ni etching silikoni nitride ati ipa ti awọn aye oriṣiriṣi.
A jiroro lori ilana ilana SF6 pilasima etching SiNx, pẹlu iyipada agbara pilasima, ipin gaasi ti SF6 / Oun ati fifi kun gaasi cationic O2, jiroro lori ipa rẹ lori iwọn etching ti Layer Idaabobo eroja SiNx ti TFT, ati lilo itọsi plasma The spectrometer itupale awọn iyipada ifọkansi ti eya kọọkan ni SF6 / He, SF6 / He / O2 pilasima ati iyipada laarin awọn oṣuwọn SFXN ti pilasima ti SF6, oṣuwọn etching ati ifọkansi eya pilasima.
Awọn ijinlẹ ti rii pe nigbati agbara pilasima ba pọ si, iwọn etching naa pọ si; ti oṣuwọn sisan ti SF6 ninu pilasima ti pọ si, ifọkansi F atomu pọ si ati pe o ni ibamu pẹlu iwọn etching. Ni afikun, lẹhin ti o ba ṣafikun gaasi cationic O2 labẹ iwọn iwọn sisan lapapọ ti o wa titi, yoo ni ipa ti jijẹ oṣuwọn etching, ṣugbọn labẹ awọn iwọn ṣiṣan O2 / SF6 oriṣiriṣi, yoo wa awọn ọna ṣiṣe ti o yatọ, eyiti o le pin si awọn ẹya mẹta: (1) Iwọn ṣiṣan O2 / SF6 jẹ kekere pupọ, O2 le ṣe iranlọwọ fun dissociation ti SF6, ati iwọn etching ti o tobi ju ni akoko yii. (2) Nigbati ipin sisan O2 / SF6 tobi ju 0.2 lọ si aarin ti o sunmọ 1, ni akoko yii, nitori iye nla ti dissociation ti SF6 lati dagba awọn ọta F, oṣuwọn etching jẹ ti o ga julọ; ṣugbọn ni akoko kanna, awọn ọta O ti o wa ninu pilasima tun n pọ si ati pe o rọrun lati ṣe SiOx tabi SiNxO (yx) pẹlu SiNx film dada, ati pe diẹ sii O awọn atomu pọ si, awọn F atoms yoo jẹ diẹ sii nira fun ifarahan etching. Nitorinaa, oṣuwọn etching bẹrẹ lati fa fifalẹ nigbati ipin O2/SF6 ba sunmọ 1. (3) Nigbati ipin O2/SF6 ba tobi ju 1 lọ, iwọn etching dinku. Nitori ilosoke nla ni O2, awọn ọta F ti o yapa pọ pẹlu O2 ati fọọmu OF, eyiti o dinku ifọkansi ti awọn ọta F, ti o fa idinku ninu oṣuwọn etching. O le rii lati eyi pe nigbati O2 ba ṣafikun, ipin sisan ti O2/SF6 wa laarin 0.2 ati 0.8, ati pe oṣuwọn etching ti o dara julọ le ṣee gba.
Akoko ifiweranṣẹ: Oṣu kejila-06-2021
