Imọ-ẹrọ etching gbẹ jẹ ọkan ninu awọn ilana bọtini. Gaasi etching gbẹ jẹ ohun elo bọtini ni iṣelọpọ semikondokito ati orisun gaasi pataki fun etching pilasima. Išẹ rẹ taara ni ipa lori didara ati iṣẹ ti ọja ikẹhin. Nkan yii ni pataki pin kini awọn gaasi etching ti o wọpọ ni ilana etching gbẹ.
Awọn gaasi ti o da lori fluorine: biierogba tetrafluoride (CF4), hexafluoroethane (C2F6), trifluoromethane (CHF3) ati perfluoropropane (C3F8). Awọn gaasi wọnyi le ṣe ipilẹṣẹ awọn fluorides iyipada ni imunadoko nigbati ohun alumọni ati awọn agbo ogun ohun alumọni, nitorinaa iyọrisi yiyọ ohun elo kuro.
Awọn gaasi ti o da lori chlorine: bii chlorine (Cl2),boron trichloride (BCl3)ati silikoni tetrachloride (SiCl4). Awọn gaasi ti o da lori chlorine le pese awọn ions kiloraidi lakoko ilana etching, eyiti o ṣe iranlọwọ lati mu iwọn etching ati yiyan pọ si.
Awọn gaasi orisun bromine: bii bromine (Br2) ati bromine iodide (IBr). Awọn gaasi ti o da lori Bromine le pese iṣẹ ṣiṣe etching ti o dara julọ ni awọn ilana etching kan, paapaa nigbati awọn ohun elo lile bii ohun alumọni carbide.
Awọn gaasi ti o da lori nitrogen ati atẹgun: gẹgẹbi nitrogen trifluoride (NF3) ati atẹgun (O2). Awọn ategun wọnyi ni a maa n lo lati ṣatunṣe awọn ipo ifarabalẹ ni ilana etching lati mu ilọsiwaju yiyan ati itọsọna ti etching.
Awọn ategun wọnyi ṣaṣeyọri didan kongẹ ti dada ohun elo nipasẹ apapọ sputtering ti ara ati awọn aati kemikali lakoko etching pilasima. Yiyan gaasi etching da lori iru awọn ohun elo lati wa ni etched, awọn selectivity awọn ibeere ti awọn etching, ati awọn ti o fẹ etching oṣuwọn.
Akoko ifiweranṣẹ: Kínní-08-2025
