Àwọn Gáàsì Pàtàkì
-
Sọ́fúrù Tetrafluoride (SF4)
NỌ́MBÀ EINECS: 232-013-4
NỌ́ŃBÀ CAS: 7783-60-0 -
Nitrous Oxide (N2O)
Nitrous oxide, tí a tún mọ̀ sí gaasi rírìn, jẹ́ kẹ́míkà tó léwu pẹ̀lú àgbékalẹ̀ kẹ́míkà N2O. Ó jẹ́ gáàsì tí kò ní àwọ̀, tí ó sì ń rùn dídùn. N2O jẹ́ oxidant tí ó lè gbé iná lárugẹ lábẹ́ àwọn ipò kan, ṣùgbọ́n ó dúró ṣinṣin ní ìwọ̀n otútù yàrá, ó sì ní ipa amúnilára díẹ̀, ó sì lè mú kí àwọn ènìyàn rẹ́rìn-ín. -
Erogba Tetrafluoride (CF4)
Carbon tetrafluoride, tí a tún mọ̀ sí tetrafluoromethane, jẹ́ gaasi tí kò ní àwọ̀ ní ìwọ̀n otútù àti ìfúnpá déédé, tí kò lè yọ́ nínú omi. Lọ́wọ́lọ́wọ́, gaasi CF4 ni gaasi ìfọ́ plasma tí a ń lò jùlọ ní ilé iṣẹ́ microelectronics. A tún ń lò ó gẹ́gẹ́ bí gaasi lésà, refrigerant cryogenic, solvent, lubricant, insulating material, àti coolant fún àwọn tube infrared detector. -
Fluoride Sulfuryl (F2O2S)
Sulfuryl fluoride SO2F2, gaasi majele, ni a maa n lo gege bi oogun apakokoro. Nitori pe sulfuryl fluoride ni awon abuda ti itankale ati agbara lati lo, kokoro apakokoro gbooro, iwọn lilo kekere, iye to ku kekere, iyara pipa kokoro ni kiakia, akoko pipinka gaasi kukuru, lilo ti o rọrun ni iwọn otutu kekere, ko ni ipa lori oṣuwọn idagbasoke ati majele kekere, bi o ti wu ki o ri, a maa n lo o ni ibi ti a n ko awon kokoro si, ninu awon ile itaja, awon oko oju omi, awon adan omi, idena kokoro, ati bee bee lo. -
Silane (SiH4)
Silane SiH4 jẹ́ gáàsì tí a ti fi omi rọ̀ tí kò ní àwọ̀, tí ó léwu, tí ó sì ń ṣiṣẹ́ gidigidi ní ìwọ̀n otútù àti ìfúnpá déédé. A ń lo Silane fún ìdàgbàsókè epitaxial ti silicon, àwọn ohun èlò tí a kò fi omi rọ̀ fún polysilicon, silicon oxide, silicon nitride, àti bẹ́ẹ̀ bẹ́ẹ̀ lọ, àwọn sẹ́ẹ̀lì oòrùn, àwọn okùn opitika, ṣíṣe gíláàsì aláwọ̀, àti ìdúró èéfín kẹ́míkà. -
Octafluorocyclobutane (C4F8)
Octafluorocyclobutane C4F8, ìwẹ̀nùmọ́ gaasi: 99.999%, a sábà máa ń lò ó gẹ́gẹ́ bí ohun èlò aerosol oúnjẹ àti gaasi àárín. A sábà máa ń lò ó nínú ìlànà PECVD (Plasma Enhance. Chemical Vapor deposition), a sì máa ń lo C4F8 gẹ́gẹ́ bí àrọ́pò fún CF4 tàbí C2F6, tí a ń lò gẹ́gẹ́ bí gáàsì mímọ́ àti gáàsì semiconductor etching. -
Nitric Oxide (NO)
Gáàsì nitric oxide jẹ́ àdàpọ̀ nitrogen pẹ̀lú fọ́múlá kẹ́míkà NO. Ó jẹ́ gáàsì olóró tí kò ní àwọ̀, tí kò ní òórùn, tí kò sì lè yọ́ nínú omi. Gáàsì nitric oxide jẹ́ ohun tí ó ń ṣe àtúnṣe kẹ́míkà púpọ̀, ó sì ń ṣe àtúnṣe pẹ̀lú atẹ́gùn láti ṣẹ̀dá gáàsì nitrogen dioxide tí ó ń parẹ́ (NO₂). -
Hídírójìn Klóràìdì (HCl)
Gáàsì HCL hydrogen chloride jẹ́ gáàsì tí kò ní àwọ̀ pẹ̀lú òórùn dídùn. Omi rẹ̀ ni a ń pè ní hydrochloric acid, tí a tún mọ̀ sí hydrochloric acid. A sábà máa ń lo hydrogen chloride láti ṣe àwọ̀, àwọn èròjà olóòórùn dídùn, àwọn oògùn, onírúurú chloride àti àwọn ìdínà ìpalára. -
Hexafluoropropylene (C3F6)
Hexafluoropropylene, agbekalẹ kemikali: C3F6, jẹ́ gaasi tí kò ní àwọ̀ ní ìwọ̀n otútù àti ìfúnpá déédé. A sábà máa ń lò ó láti pèsè onírúurú àwọn ọjà kẹ́míkà tí ó ní fluorine, àwọn ohun èlò ìtọ́jú oògùn, àwọn ohun èlò ìpaná iná, àti bẹ́ẹ̀ bẹ́ẹ̀ lọ, a sì tún lè lò ó láti pèsè àwọn ohun èlò polymer tí ó ní fluorine. -
Amonia (NH3)
Omi ammonia/ omi ammonia tí kò ní omi jẹ́ ohun èlò kẹ́míkà pàtàkì pẹ̀lú onírúurú ìlò. A lè lo omi ammonia gẹ́gẹ́ bí ohun èlò ìtútù. A sábà máa ń lò ó láti ṣe nitric acid, urea àti àwọn ajile kẹ́míkà mìíràn, a sì tún lè lò ó gẹ́gẹ́ bí ohun èlò ìtútù fún oògùn àti àwọn ohun èlò ìpakúpa. Nínú iṣẹ́ ààbò, a máa ń lò ó láti ṣe àwọn ohun èlò ìtútù fún àwọn rọ́kẹ́ẹ̀tì àti àwọn ohun ìjà.
